首套应用于PEM电解槽中的PVD镀膜设备将投入运行
来自于冯阿登纳的用于全尺寸 PEM 电解槽组件生产的首套镀膜设备即将安装完成。HISS600 是行业中第一套使用物理气相沉积 (PVD) 技术进行全天生产的镀膜设备。HISS600使用磁控溅射技术使旋转靶上的贵金属进行沉积，具有很高的靶材利用率。通过沉积后的涂层可显著降低界面接触电阻和穿透平面电阻(ICR/TPR)，并在电解阳极电位下提供腐蚀保护。这套设备将于 2024 年年中投入使用。
那么为什么选择PVD镀膜技术呢?
与电镀等其他技术相比，PVD 技术可实现更薄的镀层，从而降低贵金属的消耗，提高镀层的成本效益。
客户为何选择冯阿登纳?
冯阿登纳拥有真空镀膜设备行业多年的技术积累，可以满足客户们高度灵活性的要求。在此同时，冯阿登纳在氢能行业的技术积累和经验也被看重。此外，HISS600 在其他行业的良好表现也起到了关键作用。
HISS600有何特别之处?
HISS600 可以为双极板和多孔传输层镀膜，年累计叠加功率可达千兆瓦级，同时还符合智能制造的工业 4.0 标准。由于采用了非常灵活的模块化设计，使得我们的设备平台可以根据客户的不同阶段、不同要求进行配置。
（来源：VONARDENNE）
